NEC日前开发出了应用表面等离子共振（FPR）技术的小型光敏二极管，在2005年2月23日～25日于东京BigSight国际会展中心举办的“2005年国际纳米技术综合展暨技术会议（nano tech 2005）”上进行了展示。除此之外，该公司还同时在此次展会上展出了旨在缩小各种光元件尺寸的众多关键技术。
该公司的目标在于创立“硅纳米光子学”技术领域。其目的是通过推进相关研究，提高采用光布线的LSI性能，在通信设备中实现真正的光集成电路。该公司认为利用纳米技术，高密度地集成采用光布线和光通信技术的元件，能显著提升现有LSI和通信设备的性能。其推动力来自于如下的技术性判断“电布线的传输容量极限是10Gbit/秒。而作为光布线来说，使用波长复用技术，甚至能达到1Tbit/秒，即100倍以上”（NEC）。这种观点和英特尔等公司是一致的。
但是，要想实现这一点，靠现有的光布线和光集成电路是不够的。从目前来讲，像普通LSI那样对元件进行高密度集成完全是不切实际的幻想。这是因为光调制器和波长复用所采用的光分合元件等各种元件的尺寸非常大，为数cm～10cm。
如何才能大幅缩小元件尺寸呢？NEC已首先将该公司锁定的光集成电路所需的元件群分成了如下4类，并且决定针对各类基本元件分别探索最佳的小型化技术，以此提高元件性能。4类元件群的具体作用分别是（1）将光转换成电子；（2）传导光；（3）集束多条光布线；（4）为了光调制等，而对光进行控制。其中，这次新发表的是（1）～（3）中的元件。
应用光盘领域的高密度记录技术
本文开头所讲的采用表面等离子共振技术的小型光敏二极管就是相当于（1）的光电转换元件。相当于透镜的部位尺寸为直径3μm～5μm；负责光电转换的光敏二极管的接合部分，其直径和厚度约为100nm。与老式硅光敏二极管相比，所用硅的体积由此大幅缩小了到1/1000以下。表面等离子共振是指金属等导电体表面的电子进行集体振动的现象，具有放大近场光的作用。此技术是作为面向光盘的高密度记录技术之一而开发的。“只是刚刚开始应用于光集成电路”（NEC）。
“工作频率为20GHz，可与化合物半导体相媲美，从原理上来说可处理100GHz的信号”（NEC），这种性能的提升也是利用刚才所讲的透镜，大幅缩小接合部分而实现的。这是因为此时的电子移动距离非常短、不足100nm，电容非常小、在100fF以下。
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