昭和电工公布了用于制造半导体及液晶面板的特殊材料气体的业务战略。并提出了到2010年使销售额比2005年增加75%、扩大到210亿日元的目标。另外在该公司经营的18种特殊材料气体中，把氯（Cl2）气、氨（NH3）气以及一氧化二氮（N2O）气体定位为战略产品，并将进一步扩充这些气体的制造设备。 昭和电工透露，到2010年上述3种气体的市场规模都将大幅增加，其中氯气将从2005年的730吨约增至约3倍、达到2130吨，氨气将从3400吨约增至约2倍、达到7200吨，一氧化二氮将从2200吨增至近2倍、达到4100吨。昭和电工的战略产品中，氨气的全球市场份额为30%，一氧化二氮为20%，均为全球份额首位。氯气的全球份额为20%，全球排名第3位。昭和电工的目标是到2010年，在全球市场份额方面将氨气提高到35%、一氧化二氮提高到30%、氯气提高到30%，均占据全球份额首位。 氯气的用途主要是用于半导体门电路中的多晶硅以及液晶面板中的非结晶硅的蚀刻。其中，用于液晶面板的氯气需求预计将会大增。因此，昭和电工计划增强从事氯气制造业务的川崎制造所的生产能力。目前该制造所在提纯以及灌装两方面的生产能力均为年产300吨，昭和电工打算到2007财年上半年，将其提纯能力将提高到每年1000吨，灌装能力提高到每年600吨。另外还将制订2008年之前将灌装能力提高到1000吨的计划。 氨气主要用于半导体及液晶面板中的氮化膜以及蓝色发光二极管（LED）等的GaN结晶的制造。预计今后氨气市场将在液晶面板及LED的氨气需求带动下继续扩大。在用于LED的氨气方面，GaN类LED中使用的GaN类结晶的制造方法相关专利有希望成为推动昭和电工气体业务的主要因素。昭和电工透露，其已在日本和美国取得了使用含水率低的氨气制造GaN类化合物半导体的技术专利，在韩国和台湾正在进行专利申请。要提高GaN类LED的亮度，使用水分浓度低的氨气来形成GaN类结晶是有効的方法。昭和电工期待着打算在制造GaN类LED时使用低含水率氨气的客户将来都从拥有专利的昭和电工购买气体。 一氧化二氮主要用于形成半导体以及闪存中的氧化膜。由于半导体厂商对闪存制造设备的投资相当积极，因此昭和电工希望乘着这股东风，继续维持全球市场份额之首的地位。（记者：大久保 聪）
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