| MOCVD技术当前的趋势与未来前景 | |
2010-10-17 10:40:30 中国半导体照明网 梁静 行业分类:其它 浏览 | |
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众所周知，今年，中国LED企业在上游芯片领域动作层出不穷，纷纷启动了建厂、扩厂计划。据悉，中国购买MOCVD的订单已经排到三年之后。业内专家认为，随着未来大量的MOCVD投产，芯片价格会下降，这对产业是利好消息，但是哪个企业最终抢占商机，人才是最关键的因素。买来的MOCVD质量如何？型号是否先进？下一代的MOCVD技术的趋势是什么？这些都是企业应该思考的问题，也能从Michael Heuken的报告中得到很多启示。 Michael Heuken首先对未来的半导体照明市场进行了预测，他认为从2009年到2014年，半导体照明市场将会保持年增长率31%的速度，这将大大推动半导体照明技术的发展。大尺寸衬底是未来发展趋势，因为它符合价格降低、提高产能、高程度自动化及最大程度利用硅衬底的需求。目前2英寸和4英寸还是市场主流，但是有些公司已经开始考虑6英寸，甚至开始着手做8英寸的设计。据Michael Heuken介绍，Aixtron公司的Crius 200mm/300mm MOCVD系统能够在大尺寸的衬底上外延，并保持良好的厚度和波长均匀性。 Michael Heuken认为温度管理非常重要，他说，“对外延技术而言有三个非常关键的指标，第一个是温度，第二个是温度，第三个还是温度”，温度管理可以帮助加强统一性，也可以对比较大直径的晶片做更好的控制。 未来可能和LED技术融合的技术包括Si基技术和GaN量子线技术。 此外，Michael Heuken还介绍了Aixtron新开发的G5 HT设备，它能够满足56x2 inch / 14x4 inch / 8x6 inch / 5x8 inch的外延需求。G5 HT在600 mbar以上的高压下能以极高的速率完成高质量的氮化镓沉淀，相比G4 HT产能可提升33%。 | |
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