近日，由北方微电子公司自主研发的metal Hardmask工艺设备exiTin H430金属物理气相沉积系统正式被国内领军集成电路芯片制造企业指定为28nm制程baseline机台。28nm集成电路制造技术是目前国内最先进的半导体工艺制造技术，北方微电子PVD设备被客户指定为28nm制程工艺的baseline机台，标志着国产半导体设备已经能够完全满足中国最先进的半导体制造技术要求，实现了中国半导体装备制造技术的又一个里程碑式的跨越!
在半导体工艺制造流程里，baseline就是指产品线标准工艺流程，而标准工艺参数往往是由标准设备来提供的。一台性能稳定、工艺参数优异的设备将为整条生产线提供该制程环节最优质的工艺参数，也是客户在后续扩充产能时新设备购置的参数风向标。一般而言，作为baseline的设备品牌往往会作为客户扩产时的首选考虑。
此台被国内标杆客户认定为baseline机台的exiTin H430 HM PVD系统是面向28nm后段大马士革工艺中硬掩膜层沉积工艺所使用的专用物理气相沉积设备。由北方微电子公司自主开发的该设备采用单片自动工艺，新型溅射源设计和全新的辅助磁场发生装置等独特设计，具有成膜均匀性好、应力低、操作简单、占地面积小、运行成本低及产能高等特点。仅以工艺腔设计为例，其高效的靶材利用率、极佳的厚度和电阻均匀性均优于同类国际竞争对手，并同时可将薄膜应力控制在很低的水平。除此之外，还具备高Throughput、低CoO和CoC等特点，给客户工艺集成提供了非常广阔的优化空间。
exiTin H430 HM PVD设备于2012年11月进入客户端进行验机，在其后一年多的时间内，该设备经历了多轮马拉松可靠性测试，并于2013年12月底完成了28nm STR技术评估。2015年2月，exiTin H430 HM PVD正式通过工艺验证，成为了国内首台、也是最先进的28nm 制程的HM PVD工艺baseline机台。
回顾中国半导体设备业发展历程，可谓是一路曲折。从上个世纪70年代末期开始，我国半导体设备行业经历了一次对外技术的引进高潮，进口了大批的半导体设备，从那时起一直到整个90年代，我国的半导体设备就一直处于维持和缓慢发展的状况。进入21世纪以后，中国的半导体设备业才开始有所起色，涌现出了一批优秀的国产设备企业，并经过十几年的发展，逐步能够满足客户先进工艺需求，一步步开始缩小与国际竞争对手的差距。但就其发展过程来看，从最初的样机推出到被客户接受、到被认可以及到最终的被客户所信得过，设备企业需经历很长的路去走，绝非一蹴而就。事实上，目前国内也确实出现了不少专注于各种细分设备开发和研制的本土半导体设备厂商，但最终能成功打入市场的品牌却屈指可数。在很长一段时间内，国产设备即便能够获得大客户生产线的准入资格，也只能以“备份”机台的地位存在，或者只能承担非关键的制程工艺，这种尴尬的现状从根本上导致了国产设备话语权不足的现实，也无法提升整个产业链的综合竞争力。在近半个世纪来形成的已被国际设备大厂(每种细分设备领域也只有两三家国际厂商能真正获得市场的垂青)牢牢把控住的中国半导体设备市场中， 国产设备一直处于 “阴影”下生存的状态，抢滩市场，从既有市场占有者处分一杯羹，甚至挑战市场领先者的话语权地位——国产设备商任重道远，除了环境、时间、资金和人才外，还需要中国的半导体设备业者太多的决心、信心和耐心!
IC芯片是国家信息安全的基石，半导体设备则是IC产业核心中的核心。中国半导体设备产业不仅要做大，还要做强，才能从根本上摆脱受制于人的困境。在这种历史使命下诞生的第一台被半导体制造龙头业者认定为产品线baseline的国产半导体装备，对国家半导体产业的优化与提升有着极其重要的战略和现实意义，意味着中国本土设备商真正打破了国际半导体设备巨头长期以来的寡头垄断，也意味着中国半导体产业链综合竞争力的全线提升已曙光初现。
