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863计划“大尺寸氮化镓衬底制备与同质外延技术研究”课题取得阶段性成果

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-09-14 来源:中国半导体照明网浏览次数:512
   【中国半导体照明网专稿】2015年9月13日,由北京大学、中科院苏州纳米所、中科院半导体所、南京大学、东莞市中镓半导体、苏州纳维科技共同承担的863计划“大尺寸氮化镓衬底制备与同质外延技术研究”课题顺利通过由科技部第三代半导体材料项目管理办公室组织的课题中期检查。课题单位在国内首次成功实现了250微米的4英寸GaN自支撑衬底,对提升我国氮化镓衬底技术在国际上的地位具有十分重要的意义。
  图1.实现分离的自支撑GaN厚膜和蓝宝石衬底
 
  此外,课题组在同质外延生长、2英寸GaN自支撑衬底和GaN/Al2O3复合衬底的产业化、多片HVPE产业化设备的研制等方面均取得了较大进展,同质外延生长的GaN薄膜的位错密度1.3?107cm-2,2英寸GaN自支撑衬底和GaN/Al2O3复合衬底的产能分别达到500片/年和10000片/年,21片HVPE设备完成安装调试,并已经能够生长出质量均匀性良好的15-25微米的GaN/Al2O3复合衬底。
  图2. 21片HVPE设备及制备的2英寸GaN/Al2O3复合衬底
 
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关键词: 863 大尺寸 氮化镓 衬底
 
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