超越量产型MOCVD设备单一销售战略，昭信半导体以技术工程、提供全面解决方案、专业定制服务为核心，致力于MOCVD设备的自主研制，取得了多项核心技术专利。利用在加热系统及真空反应系统技术上，多年积累的研制经验，在常规GaN MOCVD设备技术基础上，成功开发出高温MOCVD设备技术。
三年前为中电集团旗下研究所改造了MOCVD设备，目前该设备可长期在1300°C高温下稳定运行。一年前，应在光电材料研究领域处于国内领先地位的某高校需求，提供了一台用于氧化物外延生长的MOCVD设备。该设备利用独特的结构设计，有效防止了电炉等零件的高温氧化。可长期稳定工作在1000°C高温，为客户从事氧化物外延提供了更多的研究选择。也形成了昭信半导体独特的氧化物CVD设备技术。
目前，昭信半导体正在推进量产型MOCVD设备高温技术，目标是将量产型MOCVD设备稳定工作温度提高超过1400°C。同时，在自主MOCVD设备上展开的AlN工艺研究也进展顺利，（002）面XRD小于300arcs，（102）面XRD小于500arcs，所生长的薄膜晶体质量良好。当前深紫外LED是高利市场，但在此领域国内尚未获得有效突破，一个主要原因就是现有MOCVD设备不能满足紫外产品的工艺运行，无法实现AlN、高掺Al的高质量外延。相信在不久的将来，昭信半导体的高温MOCVD设备技术，还将有更多新成果展示，将能推动深紫外LED技术的新发展。
