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聚焦半导体照明核心材料及重大装备新突破

放大字体  缩小字体 发布日期:2016-11-07 来源:中国半导体照明网浏览次数:461
  SSLCHINA2016材料与装备技术分会最细议程公布
 
  LED通用照明进入到规模性爆发的关键时期,进一步提高LED的发光效率和降低LED的制备成本仍然非常重要。目前,在外延方法、能量转换效率、热能管理、生产设备和工艺过程控制方面,LED仍有大幅提升空间。材料与装备技术对于LED性价比的提升至关重要,也是LED照明市场获得发展的关键推动力。
 
  2016年11月15日至17日,一年一度的半导体照明国际盛会——第十三届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA2016)即将在北京国际会议中心拉开帷幕。在11月16日下午(14:00-17:30,三层305E)举行的“材料与装备技术分会”聚拢了该领域一大批国际专家和企业家,畅谈产业核心材料及重大装备新进展,聚焦国产化装备及材料新进展。分会主持由中科院半导体研究所研究员、中科院半导体照明研发中心副主任王军喜和佐治亚理工大学教授Russell Dupuis共同担任。
 
  该分会特邀中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米测试中心研究员、主任徐科,北京大学教授于彤军 ,Application Engineering CCS高级部门经理、AIXTRON SE Adam R Boyd,北京北方华创微电子装备有限公司副总裁丁培军,新泽西理工学院教授Hieu Nguyen,北京康美特科技有限公司博士、技术总监孙宏杰,美国维易科精密仪器有限公司市场营销总监Mark Mckee ,中微半导体高级工艺工程师李洪伟,美国维易科(Veeco)精密仪器有限公司CTO 等等国内外特邀报告。
 
  目前,最新议程如下:

P201:材料与装备技术

Materials and Equipment Technologies

时间:2016年11月16日下午 14:00~17:30

场地:北京国际会议中心305E

主持人

Moderator

王军喜/ WANG Junxi

中科院半导体研究所研究员、中科院半导体照明研发中心副主任/Vice Director at R&D Center for Solid-State Lighting, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences

Russell Dupuis

佐治亚理工大学教授/Professor at Georgia Institute of Technology

14:00-14:25

Progress in Bulk GaN Substrate Growth

徐科中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米测试中心研究员,主任

XU Ke     Director of Nano-characterization Lab in Suzhou Institute of Nano-tech and Nano-bionics, Chinese Academy of Sciences

14:25-14:45

High-Quality GaNGrowth on Quasi-Periodic Nano-Mask of carbon nanotubes

于彤军北京大学教授

YU Tongjun    Professor at Peking University

14:45-15:05

Blue LED Mass Production in a Close Coupled Showerhead MOCVD Tool

Adam R Boyd   Application Engineering CCS高级部门经理,德国爱思强股份有限公司

Adam R Boyd   Senior Department Manager Application Engineering CCS,AIXTRON SE

15:05-15:25

GaN based LED and HEMT Devices Grown on Large Diameter Substrates

李洪伟中微半导体高级工艺工程师

LI Hongwei    Senior Member of Technical Staff at Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.

15:25-15:40

茶歇/Tea Break

15:40-16:00

III-Nitride Nanowire Leds and Lasers: The Next-Generation Lighting Technology

Hieu P T NGUYEN    美国新泽西理工学院电子与计算机工程系助理教授

Hieu P T NGUYEN    Assistant professor in the Department of Electrical and Computer Engineering, New Jersey Institute of Technology, USA

16:00-16:20

SCIL Nanoimprint Solutions: Cost-effective High Volume Nano Structuring of Sapphire Wafers

Rob.J. VOORKAMP    荷兰飞利浦知识产权与标准部SCIL Nanoimprint Solutions合作创始人

Rob.J. VOORKAMP    Co-founder of SCIL Nanoimprint Solutions, Intellectual Property & Standards, Philips Group Innovation,Netherlands

16:20-16:40

Accelerating Photonics Growth Through Advancements in High Performance As/P MOCVD and Ion Beam Sputtering Technology

Mark Mckee美国维易科精密仪器有限公司市场营销总监

Mark MckeeMarketing Director at Veeco Instruments Inc., USA

16:40-17:00

Application of Magnetron Sputtering AIN Film in GaN based LED Manufacturing Process

丁培军北京北方华创微电子装备有限公司副总裁兼PVD装备事业部总经理

DING PeijunVice President and General Manager at Equipment Department of Beijing NMC Co.,Ltd.


    论坛开幕即将进入倒计时,这场“约会”,论坛恭候您的到来!
   第十三届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA 2016)活动官网:http://www.sslchina.org
   2016中国(北京)跨国技术转移大会暨第三代半导体国际会议(IFWS)活动官网:<http://www.ifws.org.cn/>

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