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【IFWS 2016】中兴通讯射频功放平台总工刘建利:未来移动通信基站GaN射频功率器件渐成主流

放大字体  缩小字体 发布日期:2016-11-19 来源:中国半导体照明网浏览次数:487
   2016年11月15日至17日, 2016中国(北京)跨国技术转移大会暨第三代半导体国际论坛(以下简称“跨国技术转移大会”)在北京国际会议中心盛大召开。此次跨国技术转移大会,由中国科技部与北京市人民政府主办,将覆盖众多科技、产业创新热点领域。第十三届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA2016)也受到北京市科委邀请,与大会同期同地举行。
 
  围绕第三代半导体,今年跨国技术转移大会专门设置了多场分会,其中,11月16日下午举行的“第三代半导体与新一代移动通信技术”分会,围绕着第三代半导体与新一代移动通信技术展开多维度的探讨,涉及高性能GaN开关电源,GaN、SiC材料外延及电子器件等众多热点。
刘建利

中兴通讯股份有限公司射频功放平台总工 刘建利
 
  会上,来自中兴通讯股份有限公司射频功放平台总工刘建利作了题为“射频功率器件在移动通信基站射频功率放大器中的应用”主题报告。他表示,移动通信网络从上世纪八十年代产生以来,历经了三十余年的发展历史,从1G到5G,每一次更新换代都是颠覆性技术引领来解决了当时的最主要需求。我们正处在一个移动互联网高速发展的时代,网络技术演进的状态是一方面4G网络高速建设,另一方面5G技术研究快速推进。
 
  刘建利表示,展望未来移动通信基站的发展,超宽带、低功耗、集成小型化将是其必然趋势。相应的对基站内部的射频功率放大器在输出功率、能耗效率、信号带宽、可靠性、体积、重量及成本等多方面提出了更高的要求。
 
  同时,传统的LDMOS技术虽然仍然占据了基站射频功放的绝大多数应用场景,但面对未来的需求,其技术指标已经难于满足,并且LDMOS技术由于经过二十多年的演进,指标的提升已接近极限。而GaN技术以其宽禁带材料固有的特性,使得器件在工作频率、功率、效率、带宽、体积等诸多方面呈现出更加优异的性能。GaN射频功率器件的应用2012年前后开始起步,预计到2019年将占到20%以上的市场份额。
刘建利

中兴通讯股份有限公司射频功放平台总工 刘建利
 
  此外,刘建利还特别提出GaN射频器件在移动通信基站领域的应用主要有以下几个技术方向:1)多频段、超宽带的载波聚合基站系统;2)ET(包络跟踪)/DM(漏极调制)基站系统;3)DTX(数字发信机)/SMPA(开关功放)基站系统, 要求GaN射频器件具有非常高的截止频率;4)5G通信的毫米波MASSIVE MIMO基站系统等。
 
  GaN射频功率器件在移动通信基站领域应用需要重点关注的几个问题:1)GaN器件失真特性模型与DPD算法优化;2)个别场景EVM指标恶化;3)线性增益动态范围大;4)高温指标恶化等。
 
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