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【IFWS 2016】Won-Jae LEE: 韩国SiC相关研究小组的最近研发现状

放大字体  缩小字体 发布日期:2016-11-25 来源:中国半导体照明网浏览次数:385
   氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等为代表的第三代半导体材料,具有高击穿场强、高热导率、高电子饱和速率、高抗辐射能力等优越性能,是固态光源和电力电子、微波射频器件的“核芯”,在半导体照明、新一代移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等领域有广阔的应用前景,可望成为支撑信息、能源、交通、国防等发展的重点新材料,正在成为全球半导体产业新的战略高地。
 
  11月15日-17日,2016中国(北京)跨国技术转移大会暨第三代半导体国际论坛(以下简称“跨国技术转移大会”)在北京国际会议中心举行,第十三届中国国际半导体照明论坛并与之同期同地举行。其中,在11月17日召开的“碳化硅电力电子器件技术分会”现场,聚集了来自全球各地顶尖专家,高质量报告密集发布,亮点十足。
韩国东义大学Won-Jae LEE 教授介绍了韩国SiC相关研究小组的最近研发现状
  会上,来自韩国东义大学Won-Jae LEE 教授介绍了韩国SiC相关研究小组的最近研发现状。
 
  Won-Jae LEE表示,碳化硅是电子和光电应用的一种重要的半导体材料,也是下一代电力电子材料的关键,相比传统的硅基电子器件,它显示出强大的潜力,前景光明,优势明显。
 
  在过去的几十年里,SiC功率器件的商业化项目系统不断增加扩大。SiC晶体缺陷的减少以及制备SiC基器件/系统的成本降低对产业的有效实施,生产以及市场创造发挥了重要的作用。
 
  许多研究小组包括韩国多家大公司已经研发出高质量的大直径SiC晶体和功率器件,如二极管、三极管。自2010年以来,韩国政府支持的国家计划已经启动,批量生产6英寸的SiC晶片和功率器件。许多新公司,如电子和车辆公司对未来的碳化硅业务产生了浓厚的兴趣。随后将对其SiC研发小组DEU做以简单介绍。
 
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