在今年一年一度的半导体照明国际盛会--第十三届中国国际半导体照明论坛（SSLCHINA2016）期间。在 “材料与装备技术分会”聚拢了该领域一大批国际专家和企业家，畅谈产业核心材料及重大装备新进展，聚焦国产化装备及材料新进展。分会主持由中科院半导体研究所研究员、中科院半导体照明研发中心副主任王军喜和佐治亚理工大学教授Russell Dupuis共同担任。
会上，来自美国维易科精密仪器有限公司市场营销总监Mark Mckee介绍了通过高性能As/P MOCVD和离子束溅射技术加快光子发展情况。
他表示，随着人们对数据通信、传感、红外照明和光纤泵浦的需求增多，光子器件如VCSEL激光器，EE激光器越来越受欢迎。未来五年现有和新增应用将呈现两位数增长。
同时，MOCVD技术和设备满足了光子制造商对生产设备的需求。这是器件制造迈出的关键一步，MOCVD技术严格的性能要求和技术创新满足了客户日益增长的需求。这些创新必然推动高收益和生产力，降低制造成本和增强设备制造商的盈利能力。
此外，Mark Mckee还表示， AR和HR的低吸收涂层需要长久的使用寿命和卓越的性能。离子束溅射是一种已被证明的沉积技术，实现了所需的性能。本演讲将重点放在新k475i?MOCVD平台，其实现了光子器件大批量制造的成本要求，以及显著证明了AR和HR涂层所用的SPECTOR?离子束溅射技术。
