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美国Crystal IS.联合创始人Leo SCHOWALTER:短波长UVC LED之氮化铝基板的优点

放大字体  缩小字体 发布日期:2018-11-01 来源:中国半导体照明网浏览次数:368
   2018年10月23-25日,由国家半导体照明工程研发及产业联盟(CSA)、第三代半导体产业技术创新战略联盟(CASA)与深圳市龙华区政府联合主办的第十五届中国国际半导体照明论坛(SSLCHINA 2018)暨2018国际第三代半导体论坛(IFWS 2018)在深圳会展中心举行。
 
  10月24日下午,“固态紫外器件技术”分会如期举行,分会重点关注以氮化铝镓、氮化镓为代表的紫外发光材料,以碳化硅、氮化镓为代表的紫外探测材料,高效量子结构设计及外延,以及发光二极管、激光器、光电探测器等核心器件的关键制备技术。
 
  美国Crystal IS.联合创始人Leo SCHOWALTER,中科院半导体研究所研究员、中科院半导体照明研发中心副主任王军喜,华中科技大学教授陈长清,北京大学副教授许福军,三重大学助理教授永松谦太郎,中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研究员孙钱,厦门大学教授黄凯,中南大学教授汪炼成,南京大学苏琳琳等中外同行专家带来精彩报告,并分享各自的最新研究成果。厦门大学教授康俊勇,中科院半导体研究所研究员、中科院半导体照明研发中心副主任王军喜共同主持了本届分会。
Leo SCHOWALTER
 
  高质量(TDD低于105 cm2)的两英寸直径的氮化铝(AlN)衬底现已可用于生产UVC LED(波长小于280 nm)。最近一些研究小组开始开发研究波长小于240nm的UVC LED,美国Crystal IS.联合创始人Leo SCHOWALTER带来了“短波紫外(UVC )LED:氮化铝衬底的优势”的报告,分享了在短波长处获得高性能UVC LED的研究进展和成果,他表示,这些c面氮化铝衬底对于短波长的UVC发光二极管具有吸引力,因为基体中的低缺陷密度,加上铝极性表面上的假外延生长,使得高含量的铝含量器件层具有同样低的TDD。这些c面氮化铝衬底对于制造短波长UVC LED很有吸引力,因为衬底中的低缺陷密度与铝极性面上的假晶外延生长相结合,使得具有低TDD的高铝含量器件层成为可能。 与使用蓝宝石等其他衬底的UVC LED器件制造技术相比,这种AlGaN/AlN技术在265nm波长表现出了优越性能和高产率,是消毒应用的最佳选择。波长越短,假晶AlGaN / AlN技术的优势更突出。
 
  最近,有研究小组开始开发研究波长小于240nm的UVC LED。这些短波长LED有几个有趣的商业应用,包括监测水中的硝酸盐含量、排放气体中的NOx和SOx、DNA纯度分析和高性能液相色谱(HLPC)等。这些器件需要更高浓度的铝,这改善了与AlN衬底的晶格匹配,并允许生长非常高质量的外延层。AlN的能带(大于6eV)使得可以制造波长210nm左右的LED器件。 然而,在高铝浓度下实现良好的导电性和电接触越来越困难。此外,高铝浓度的e-h重组产生的光子倾向于垂直c轴传播,这使得c面衬底光子出射存在问题(TM极化问题)。
 
  Leo SCHOWALTER表示,尽管存在这些问题,我们仍能够在235nm波长处获得高性能UVC LED。正向电压通常小于6V,即使我们采用高铝摩尔分数,与之前相比也是非常低的。20mA时,UVC LED在238 nm和235 nm波长处的输出功率分别为0.5mW和0.4mW,这是在没有特别辅助提高光子出射下获得的。这些器件的使用寿命超过1000小时。
 
  (内容根据现场资料整理,如有出入敬请谅解)
 
 
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关键词: 固态紫外 LED
 
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