11月26日上午，“Micro-LED与其他新型显示技术”分会如期召开。本届分会由山西中科潞安紫外光电科技有限公司、华灿光电股份有限公司、德国爱思强股份有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司协办。
法国原子能委员会电子与信息技术实验室研究主任Francois TEMPLIER，北京大学教授陈志忠，德国ALLOS Semiconductors首席技术官Atsushi NISHIKAWA，美国Lumiode, Inc.创立者兼总裁Vincent LEE，北方华创PVD事业部LED产品经理郭冰亮，和莲光电科技股份有限公司董事长邰中和，南京大学电子科学与工程学院副院长、教授刘斌，德国Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL等来自中外的强势力量联袂带来精彩报告。
德国Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL做了题为“用于μ-LED和OLED显示器和晶圆的亚像素评估的成像光测量设备µ-LED市场预计将急剧增长”的主题报告，分享了µ-LED / OLED显示测试在生产中的挑战，µ-LED晶圆测试在生产中的挑战，显示器生产测试的解决方案，标准显示测试，测试µ-LED晶圆（或小型显示器），亚像素表征（µ-LED，OLED），缺陷像素评估，在线µ-LED（-OLED）测试等内容。
报告显示，µ-LEDs可能是破坏性的显示技术，µ-LED晶圆测试需要基于相机的测量概念，以实现合理的生产节拍时间。卓越的µ-LED技术需要高性能和极高分辨率的LMD才能进行快速生产测试，亚像素评估和校准需要复杂的算法和分析工具。
（内容根据现场资料整理，如有出入敬请谅解）
