11月26日上午，“Micro-LED与其他新型显示技术”分会如期召开。本届分会由山西中科潞安紫外光电科技有限公司、华灿光电股份有限公司、德国爱思强股份有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司协办。
法国原子能委员会电子与信息技术实验室研究主任Francois TEMPLIER，北京大学教授陈志忠，德国ALLOS Semiconductors首席技术官Atsushi NISHIKAWA，美国Lumiode, Inc.创立者兼总裁Vincent LEE，北方华创PVD事业部LED产品经理郭冰亮，和莲光电科技股份有限公司董事长邰中和，南京大学电子科学与工程学院副院长、教授刘斌，德国Instrument Systems optische Messtechnik GmbH的Tobias STEINEL等来自中外的强势力量联袂带来精彩报告。
在过去的几年中，Micro-LED显示器一直处于下一代显示技术的最前沿。Micro-LED类别集中于传质或基于集成的技术。范围从3“-70”的直视式显示器使用传质方法将单个Micro-LED晶粒转移到辅助基板上。可以通过将微型LED与CMOS集成电路进行芯片级键合，将LED外延层转移到CMOS或将微型LED与薄膜晶体管（TFT）集成，来构建<2“的微型LED微型显示器。
会上，美国Lumiode, Inc.创立者兼总裁Vincent LEE做了题为《面向Micro LED显示的III-V族LED与超薄硅晶体管集成技术》的报告。报告介绍了该公司技术团队在将Micro LEDs与Si TFTs进行集成方面的技术进展，其技术特点是在高亮度（如全白状态下）Micro LED显示能够实现较低温度，从而提升显示产品的可靠性。
（内容根据现场资料整理，如有出入敬请谅解）
