北方华创自2001年成立后便开始组建团队研发刻蚀技术，并于2004年第一台设备成功起辉，2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线，并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。
目前，北方华创的刻蚀设备已覆盖集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS、化合物半导体、硅基微显等多个领域。
其中，12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代的同时，在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中也发挥着重要作用。
北方华创表示，lCP刻蚀机交付突破1000腔，不仅是公司发展征程中的重要里程碑，更是国产刻蚀机在历经了二十载自主创新，得到客户广泛认可的重要标志。
