对于净利润同比增长，公司表示主要系：中芯国际科创板股票投资公允价值变动收益约2.62亿元；公司2020年计入非经常性损益的政府补助较2019年增加约2.26亿元。
同时，由于公司2020年因实施股权激励计划产生股份支付费用约1.24亿元(属于经常性损益)，所以导致2020年归母扣非净利润减少。
报告期内，公司继续保持较高的研发投入。2020年度公司研发投入为6.40亿元，占营业收入28.14%。
年报显示，公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售，涉足半导体集成电路制造、先进封装、LED外延片生产、功率器件、MEMS制造以及其他微观工艺的高端设备领域。其中，公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65纳米到14纳米、7纳米和5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。
经营情况方面，中微公司在年报中阐述，公司以研发创新为驱动的高质量增长策略，抓住重点客户扩产投资机会，推进订制化精细化生产经营，公司在刻蚀设备和MOCVD等设备产品研发、市场布局、新业务投资拓展等诸多方面取得了较大的突破和进展。
例如，报告期内，公司CCP刻蚀设备产品保持竞争优势，Primo AD-RIE、Primo SSC AD-RIE、Primo HD-RIE等产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线，并持续提升市场占有率，在部分客户市场占有率已进入前三位。此外，在先进逻辑电路方面，公司持续升级硬件性能，成功取得5纳米及以下逻辑电路产线的重复订单。
又如，公司ICP刻蚀设备已经逐步趋于成熟，新推出的 Primo nanova产品在10家客户的生产线上进行验证，已有超过50个工艺在客户的生产线上达到指标要求，且持续扩大应用验证范围。2020年开始，Primo nanova产品逐步取得客户的重复订单。尤其是2020年下半年，在国内存储客户的扩产带动下，该产品的销售取得较大进展。
在持续提升 Primo nanova刻蚀设备的市场份额的同时，公司研发的具有高输出率特点的双反应台ICP刻蚀设备 Primo Twin-Star也已经在客户端完成认证。
MOCVD设备方面，公司继续发挥在蓝光LED设备的竞争优势，Prismo A7等 MOCVD产品实现大量发货。2020年7月，中微公司宣布推出应用于深紫外LED外延片生产的 Prismo HiT3MOCVD设备，该设备已在行业领先客户验证成功等。
同时，公司兼顾外延性发展，在聚焦公司核心业务集成电路设备的同时积极探索布局包括健康领域在内的新业绩增长点，子公司中微惠创、中微汇链及公司参与投资标的公司在各自细分领域取得了卓有成效的进展，公司和国内外先进设备公司的合作也取得了突破进展。
谈及公司发展战略，中微公司在年报中表示，公司目前开发的产品以半导体前道生产的等离子体刻蚀设备、薄膜沉积等关键设备为主，并逐步开发先进封装、MEMS、蓝绿光及紫外 LED、Mini LED、Micro LED 等泛半导体设备产品。未来，在强化内生成长的同时，公司将在适当时机通过并购等外延式成长途径扩大产品和市场覆盖，并将继续探索核心技术在国计民生中创新性的应用。
