梁骏吾院士，1933年9月18日生于湖北武汉。1955年毕业于武汉大学，1956年至1960年就读于前苏联科学院莫斯科巴依可夫冶金研究所并获得副博士学位，同年到中国科学院半导体研究所工作至今。60多年来，他为我国半导体材料领域的学科建设、技术创新、产业振兴以及人才培养作出了重要贡献。梁骏吾院士先后荣获国家科委科技成果二等奖和新产品二等奖各1次，国家科技进步三等奖1次、中科院重大成果和科技进步一等奖3次、二等奖4次，上海市科技进步二等奖1次等各种科技奖共20余次。1997年当选中国工程院院士。
梁骏吾院士在半导体材料科学领域辛勤耕耘、造诣颇深，并取得了一系列重要科研成果。上世纪60年代解决了高纯区熔硅的关键技术。1964年制备出室温激光器用GaAs液相外延材料。1979年研制成功为大规模集成电路用的无位错、无旋涡、低微缺陷、低碳、可控氧量的优质硅区熔单晶。80年代首创了掺氮中子嬗变硅单晶，解决了硅片的完整性和均匀性的问题。90年代初研究MOCVD生长超晶格量子阱材料，在晶体完整性、电学性能和超晶格结构控制方面，将中国超晶格量子阱材料推进到实用水平。主持“七五”、“八五”重点硅外延攻关，完成了微机控制、光加热、低压硅外延材料生长和设备的研究。他还在太阳电池用多晶硅的研究和产业化等方面发挥着积极作用。
梁骏吾院士甘为人梯、提携后进，在教育战线上辛勤耕耘60余载，倾注了大量心血和汗水，培养和造就了一大批德才兼备的专业人才，对我国半导体材料科学事业的发展和半导体材料学领域的人才培养作出了重要贡献。
