知识产权机构韩国特许厅10月31日宣布，将从11月1日起将国内研究、开发或生产的显示领域的专利申请指定为优先审查对象，为期一年。具体对象包括与显示材料、部件、设备，制造、设计技术直接相关的申请，以及韩国国内生产或准备生产显示相关产品、设备等企业的申请，和与显示技术相关的国家研究开发项目成果相关的申请等。
特许厅预计，通过这个制度，原本平均需要16个月才能开始的一般专利审查周期，将缩短至平均2个月内。与此同时，在10月31日结束的半导体领域的申请优先审查对象指定，也将延长一年。如果申请与半导体材料、部件、设备，制造、设计技术直接相关的专利，也将能够接受优先审查。
此外，考虑到在申请优先审查时，很多情况下很难预测专利分类（CPC）是否符合条件，因此将删除与现有半导体相关的专利分类要求。据悉，这一措施是为了支持韩国企业在国际显示领域专利争端日益加剧的情况下，快速获得专利而实施的。
（来源：集微）
