2024年12月26日，普照材料8.6代及以下高精度掩模基板项目产业园正式开工。 据悉，普照材料高精度掩模基板项目将投资人民币18亿元，分为两期建设，一期投资8亿元，建设平板显示用8.6代及以下高精度掩模基板项目，二期投资10亿元，建设半导体用高精度掩模基板项目，最高可满足28nm制程。项目建成后，普照材料将成为国内规模最大、实力最强的掩模基板企业之一。
掩模基板是平板显示和半导体制造过程中的图形转移工具或母版，用来承载图形设计和工艺技术等信息的重要载体。我国高端掩模基板材料被国外垄断，已成为国内半导体和平板显示产业链“卡脖子”痛点，严重制约行业发展。
据记者了解，普照材料成立于2003年，是国内成立最早、技术领先的掩模基板研发、生产与销售企业之一，积极投身掩模基板材料的研发生产和技术创新，打破国外企业垄断，填补国内空白。目前已完成100多项型号产品的开发认证及量产销售，产品广泛应用于新型平板显示器件、集成电路、精细光学、线路板、微纳加工及激光防伪等多种产业，远销美国、德国、韩国、日本等海外国家。
此次普照材料开工的一期8.6代及以下高精度掩模基板项目，将引进高端的智能化数字化生产设备，建成高世代掩模基板生产线。总用地面积39979平方米，总建筑面积53678.05平方米，产品可满足LTPS、LTPO、AMOLED、Micro LED等多种平板显示掩模基板需求，计划2025年12月开始投产。项目二期预计于2025年启动建设，建成后产品可满足半导体130nm-28nm制程用掩模基板需求，计划2026年投产。项目投产后，将极大提升普照材料的产能和技术水平，优化产业结构，促进智能化转型升级，增强其市场竞争力。
