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晶能光电申请 GaN 基 LED 外延结构及其制备方法等专利,显著提高 LED 发光效率

放大字体  缩小字体 发布日期:2025-03-28 浏览次数:210

 国家知识产权局信息显示,晶能光电股份有限公司申请一项名为“一种 GaN 基 LED 外延结构及其制备方法、LED 芯片”的专利,公开号 CN 119677254 A,申请日期为 2025 年 2 月。

专利摘要显示,本发明提供了一种 GaN 基 LED 外延结构及其制备方法、LED 芯片,通过电子阻挡层减少电子泄露的同时,在外延结构中的多量子阱层与电子阻挡层之间,采用包含厚度较薄的 AlN 层的空穴注入层,不仅能降低空穴输运时的势垒屏障高度,还提供了空穴隧穿的有效路径,并增加了空穴注入时的能量,显著提高了空穴注入效率,增大注入到多量子阱层中的空穴浓度,进而增大 LED 的发光效率。

天眼查资料显示,晶能光电股份有限公司,成立于2006年,位于南昌市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本38927.9181万人民币,实缴资本38927.9181万人民币。通过天眼查大数据分析,晶能光电股份有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目31次,财产线索方面有商标信息12条,专利信息260条,此外企业还拥有行政许可93个。

 
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