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2019-11-28 09:38
德国弗劳恩霍夫应用固体物理研究所部门技术部门经理Peter BRÜCKNER:高频氮化镓
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和MMIC
2019-11-27 10:11
日本福井大学教授Masaaki KUZUHARA:基于半绝缘氮化镓衬底生长的高击穿电压氮化镓
HEMT器件
2016-11-29 08:55
【SSLCHINA 2016】中微半导体高级工艺工程师李洪伟:大尺寸基片上生长的GaN基LED和
HEMT器件
2016-11-22 12:55
【IFWS 2016】张翼: La2O3/SiO2钝化和铜金属化的氮化镓增强型
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2016-11-21 08:39
【IFWS 2016】孔月婵:fT > 260 GHz时高性能超薄第四组InAlGaN势垒
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2016-11-21 08:12
【IFWS 2016】綦振瀛: 射频通信用AlInN/GaN
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