1月20日，拓荆科技股份有限公司（以下简称：拓荆科技）发布公告称，根据未来发展规划，公司拟以货币形式和/或非货币财产作价方式，合计出资人民币50,000万元设立全资子公司拓荆科技（沈阳）有限公司。该子公司主要围绕公司现有主营业务开展相关经营活动，从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务。
据了解，拓荆科技成立于2010年4月，2022年4月正式登陆科创板。公司总部位于沈阳市浑南区，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务，主要产品为半导体薄膜沉积设备，包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。
薄膜沉积设备是集成电路晶圆制造的核心设备，沉积的薄膜是芯片电路中的功能材料层。根据拓荆科技官网介绍，公司的薄膜沉积设备已广泛应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro LED、OLED显示等高端技术领域。
拓荆科技认为，拓荆科技（沈阳）有限公司的成立有利于促进公司发展战略的实施，完善和提升公司业务发展布局，增强公司盈利能力，进一步提升公司的综合竞争力。
